為了取得光亮的電解拋光外表,必需使外表上微觀粗糙度降低到低于光的波長。要到達此目的,通常以為應(yīng)當構(gòu)成比中間黏膜層更厚,更致密,更易鈍化的嚴密層,它能夠是趨于飽和的高黏度黏液層,也能夠是固體層。
這樣,金屬的溶液是在嚴密膜內(nèi)停止的,嚴密膜的構(gòu)成速度應(yīng)當超越該膜的溶解速度,這是存在嚴密膜的前提。在簡直無對流的特殊條件下,Jacquet層變得非常厚,也愈加嚴密,以至能夠呈現(xiàn)光的干預色。在這樣厚的黏液膜或固體膜內(nèi),陽極電流密度變得十分小,它能夠使微觀的凸出局部溶解,而微觀的凹入局部不溶解,這就到達了微觀的整平目的。
由于相似的狀態(tài)在金屬外表的屢次存在,是 外表的各個局部均發(fā)作了微觀整平,這種外表的無序微觀整平的最終結(jié)果,就使金屬外表變得光亮。所以店家拋光實踐上是陽極外表的宏觀整平(一次電流散布)和微觀整平(兩次電流散布)作用的結(jié)果。只要宏觀整平,陽極外表只能變得潤滑,但不能產(chǎn)生光澤。有些電解拋光液能夠同時具有宏觀整平和微觀整平的作用,在電解拋光的第一階段,構(gòu)成的黏液膜的黏度還不夠高,此時只起宏觀整平作用。當宏觀整平停止到一定的水平后,構(gòu)成的黏液膜更黏,更貼近金屬外表,因而也能夠起微觀整平作用,從而到達真正的電解拋光效果。